AE2001各向同性氧化層刻蝕機
AE2001各向同性氧化層刻蝕機
| 設備名稱 | ISO干法刻蝕機 |
| 規格型號 | AE2001 |
| 生產廠家及進口國 | GASONICS/美國 |
| 啟用日期 | 2010-8-10 |
| 最近檢修時間 | 2015年1月 |
| 技術指標 | 刻蝕精度1um |
| PEBPSG ER(參考) | 2200A/M |
| PETEOS ER(參考) | 1050A/M |
| Poly ER(參考) | 2000A/M |
| 機臺狀態 | Offline |
| 使用環境 | 無塵潔凈車間 |
| 待售設備2臺：BEISO01, BEISO03 | |
工作原理
密封真空腔中加入選配的高純特氣、合適的工作壓力、底部燈絲加熱、輸入一定量的微波電源使腔體內
的氣體電離，氣體電離后釋放出高能的活性態離子與wafer無掩膜的表層膜質反應而刻蝕出需要的圖形。
