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刻蝕

AE2001各向同性氧化層刻蝕機

發布時間2021-09-09

     AE2001各向同性氧化層刻蝕機


設備名稱

ISO干法刻蝕機

規格型號

AE2001

生產廠家及進口國

 GASONICS/美國

啟用日期

2010-8-10

最近檢修時間

20151

技術指標

刻蝕精度1um

PEBPSG ER(參考)

2200A/M

PETEOS ER(參考)

1050A/M

Poly ER(參考)

2000A/M

機臺狀態

           Offline

使用環境

無塵潔凈車間

待售設備2臺:BEISO01, BEISO03

            

                     工作原理


密封真空腔中加入選配的高純特氣、合適的工作壓力、底部燈絲加熱、輸入一定量的微波電源使腔體內

的氣體電離,氣體電離后釋放出高能的活性態離子與wafer無掩膜的表層膜質反應而刻蝕出需要的圖形。

       


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