0.5um 40V/40V HVCMOS技術是FMIC自主開發的非外延高壓CMOS通用工藝平臺。與同領域典型的1.0um 40V HVCMOS工藝平臺相比，生產週期和成本相近的情況下，集成度可明顯提升；與同行業類似的0.5um HVCMOS平臺相比，生產週期和生產成本均可減少約20%該平臺產品可以廣泛的應用於電源管理、LED驅動等消費電子領域。
1) 工藝特性
? 常規5V 低壓MOS相容行業標準
? 19層光罩，19個光刻層（其中包含3個可選層），採用非外延工藝
? 四阱工藝： 深隔離N阱，高壓N阱，N阱，P阱
? 採用局部氧化和PN結隔離
? 雙柵氧，125A和1000A
? SOG平坦化，鎢塞工藝
? 工作電壓： Vgs&Vds 5-40V
2) 典型應用
? AC/DC 轉換電路
? DC/DC 轉換電路
? 驅動電路
? 高壓模數混合電路